第九九八章 重回世界之巅(1 / 2)

四月二十六日。

硅谷。

GCA总部。

“公司拿出200万美元奖励GCA3500B项目部。”

周五下午,孙健接到余建国从美国打过来的报喜电话,第二天就乘飞机来到硅谷。

啪啪……

艾德里安、布罗迪和汤普森等公司高层露出了久违的笑容,扬眉吐气。

GCA光刻机半导体研究院将研制成功的适合8英寸晶圆和350nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统,安装在一台GCA3500A光刻机上,制程工艺突破350nm,通过多次测试,最高达到320nm,命名为GCA3500B,制程工艺超过Nikon3500B光刻机,还提升47%的生产效率,创了新的世界纪录!

去年底研制成功GCA3500A是一个巨大的突破,与Nikon3500B光刻机的制程工艺看起来相同,但由于安装有适合8英寸晶圆和500nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统,GCA3500A的制程工艺和生产效率明显超过Nikon3500光刻机,经过Sematech专家组技术认证后,INTEL、IBM、TI、AMD和HP半导体设备公司预定了五台GCA3500A光刻机。

紧接着,GCA股东大会通过并实施向10名特定投资者以每股1.5美元的价格,定向增发10亿新股的方案,其中PENG购买了3亿股,ATIC购买了2亿股,GCA融资145500万美元,现金流大增,召回和招聘了400多名研发人员和技术工人,启动了3条光刻机半导体设备生产线,如今能同时生产五台GCA3500A光刻机。

随着5台GCA3500A光刻机的交付使用,用户反应良好,INTEL、IBM、TI、AMD和HP等公司又预定了14台GCA3500A光刻机,还从台积电拿到一条价值60亿美元的8英寸晶圆和以GCA3500A为主的半导体生产线订单。

为了提高芯片生产工艺和一小时单位产能(WPH),一家晶圆厂(FAB)在一条先进的半导体生产线上一般配备20台左右的光刻机,高低搭配,除了最下面的晶体管层需要最先进的光刻机之外,上面做铜互联技术的无需最先进的光刻机。

一条半导体生产线中,除了占到半导体生产线成本三分之一的光刻机外,还需要清洗设备、高温/氧化炉管退火设备、匀胶机、烘干设备、显影设备、刻蚀机、去胶机、离子注入设备、CVD/PVD/ALD/PECVD/CMP等大批高精尖设备,数量最多的是沉积设备(包括PVD CVD)、刻蚀设备(ICP、CCP、DIE)和热处理设备(RTP),GCA如今六成需要从其他半导体设备厂定购,然后系统集成。

GCA如今专心生产光刻机、刻蚀机、硅晶圆、光刻胶、掩膜版和离子注入机,重生者也不担心GCA被人制裁!

GCA的股价如今2.95美元,GCA3500B研制成功的消息一旦公布于众,第二天的股价突破4美元都有可能。

GCA的战略投资者赚得盆满钵满,对华人首富点石成金的本领佩服不已。

GCA3500A研制成功后,美国商务部和Sematech发来贺电,圣何塞布朗市长到场祝贺。

GCA管理层、技术团队和普通员工欢欣鼓舞,干劲十足。

GCA3500B光刻机的研制成功,GCA重回全球光刻机之巅,重新领导全球光刻机产业发展的步伐,对GCA的意义如同浴火重生、凤凰涅槃,在同日本半导体产业竞争中取得暂时领先的优势,对美国半导体产业的发展也具有重大意义。

全球近八成高端芯片的订单来自INTEL、IBM、TI、AMD和HP等美国高科技公司,这些公司都是Sematech会员。

Sematech也是扬眉吐气,赶超Nikon光刻机成为Sematech会员的共同目标,INTEL、IBM、TI、AMD和HP等美国半导体设备和生产公司将会抢先预定GCA3500B光刻机和由GCA3500B光刻机为主构成的半导体生产线。

按照双方签订的专利技术转让协定,GCA研制的适合8英寸晶圆和350nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统技术将交给BSEC,BSEC将在国内专利局和国际专利局分别申请公司发明专利。

万事开头难!

BSEC光刻机工作台研究所如今又研制成功适合5英寸晶圆和1um制程工艺、6英寸晶圆和1um制程工艺、6英寸和800nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统。

经过6个多月的等待,BSEC从国家专利局拿到了5英寸晶圆和1.5um制程工艺光刻机的公司发明专利证书。

BSEC为华越半导体公司生产的一条5英寸晶圆和1.5um制程工艺半导体生产线正在有序的生产之中。