开发的产品只能在自己生产的光刻机上使用，不能单独卖给第三方，利用对方的专利技术开发新的专利技术，不能申请公司发明专利，专利方有权申请新的公司发明专利，使用和转让。

BSEC转让磁悬浮式光刻机双工作台系统的专利技术（还没有取得公司发明专利证书）给GCA，获得了专利局审核委员会的批准。

特事特办！

GCA相当于在4英寸晶圆、1.5um制程工艺的磁悬浮式双工作台系统上升级到8英寸晶圆、500nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统，虽然对掌握了6英寸晶圆、800nm制程工艺的GCA来说不难，但也要投入资金、人员和时间。

GCA在磁悬浮式双工作台系统专利技术上研发成功的所有双工作台系统技术都属于BSEC。

BSEC光源研究所从立项和研发成功具有自主知识产权的ArF准分子激光器，邓国辉需要2000万元的研发资金，计划三年内完成。

半导体产业发展日新月异，三年后，要不是被193nm波长的世界性光学难题卡住了，尼康光刻机的制程工艺早就超过了65nm！

如同神助！

不然BSEC将越掉越远！

800nm制程工艺专利技术对于GCA如同鸡肋，但对于BSEC来说如同神助，一下子跨过1um制程工艺，掌握了800nm制程工艺，但BSE制程工艺专利技术的基础上，研发成功500nm、350nm、250nm、180nm、90nm等制程工艺专利技术都属于GCA。

互利共赢！

BSEC和GCA的专利技术转让也是一柄双刃剑！

台面上，GCA似乎吃了亏，但重生者不这样认为。