I、AMD和HP等美国半导体公司，在公司利益面前果断放弃美国利益，纷纷掉头投入尼康公司的怀抱。

在尼康公司的打压下，GCA的高端市场份额不断减少，在八五年、八六年损失一亿美元，不得不裁员七成；八八年，美国通用信号公司以七千六百万美元收购了陷入财务困境的GCA，为了与尼康竞争，Sematech（美国半导体制造技术战略联盟）资助GCA开发成功KrF光刻机，实现了1μm制程工艺，但尼康光刻机的制程工艺提升到800nm，GCA的高端市场份额没有多大起色。

六六年，中K院109所与沪海光学仪器厂联手协作成功研制中国第一台光刻机、65型接触式光刻机。

八一年，中K院半导体研究所研制成功JK-1半自动接近式光刻机。

八二年，109厂、冰城量具刃具厂和阿城继电器厂共同研制成功KHA75-1型半自动接近式光刻机，在指标上已经完全对标日本的PLA500-F型。